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廣州市譜源氣體有限公司
詳解電子氣體的主要用途
2018-5-2 15:10:47
隨著我國高新技術(shù)的快速發(fā)展，計算機工業(yè)對大規(guī)模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加；隨著新型能源的發(fā)展，我國大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產(chǎn)；此外，新型電光源、光電半導(dǎo)體器件（GaAs、InP、AlGaAs）、光纖通訊器件也獲得迅猛發(fā)展，在上述高新產(chǎn)品的生產(chǎn)中，都需要大量高純氣體，以制造出性能可靠的各種器件。
用途一：大規(guī)模集成電路
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）
化學(xué)刻蝕：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl
化學(xué)摻雜：BF3，B2H6，PH3，AsH3
用途二：液晶屏
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，SiNx
化學(xué)刻蝕：SF6，HCl，Cl2
用途三：太陽能電池
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，NH3，NF3
擴散、刻蝕：POCl3，O2，CF4
用途四：光電半導(dǎo)體
化學(xué)氣相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2
化學(xué)刻蝕：BCl3，Cl2
用途五：光導(dǎo)纖維
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4
化學(xué)刻蝕：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6
用途一：大規(guī)模集成電路
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）
化學(xué)刻蝕：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl
化學(xué)摻雜：BF3，B2H6，PH3，AsH3
用途二：液晶屏
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，SiNx
化學(xué)刻蝕：SF6，HCl，Cl2
用途三：太陽能電池
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，NH3，NF3
擴散、刻蝕：POCl3，O2，CF4
用途四：光電半導(dǎo)體
化學(xué)氣相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2
化學(xué)刻蝕：BCl3，Cl2
用途五：光導(dǎo)纖維
化學(xué)氣相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4
化學(xué)刻蝕：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6
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地址：廣州市增城新塘西洲大王崗工業(yè)區(qū)
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聯(lián)系郵箱：market@51qiti.com
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