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行業新聞
規模最大、實力最強的電子特種氣體生產企業
2016-10-27 10:32:46
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隨著世界電子行業的快速發展,高純電子氣體的生產和銷售呈穩步上升趨勢,具有廣闊的發展前景。位于邯鄲的七一八所深化產業發展,持續加強技術創新、商業模式創新,不斷提升自主研發能力,目前已成為國內規模最大、實力最強,具有較強國際競爭力的電子特種氣體及三氟甲磺酸系列產品的生產企業。
如今電子產品的使用日漸普及,三氟化氮等特種氣體消耗量增長迅猛。但以美、日、韓為代表的主要生產國,利用產業鏈的主導優勢,以戰略物資為由對中國進口三氟化氮進行嚴格控制,嚴重制約了我國半導體、信息等產業的發展。在這種情況下,七一八所著手對這個項目的科研攻關。七一八所對三氟化氮氣體的研制最早可追溯到20世紀80年代初期,初期僅作為一種實驗用氣,年產只有數十公斤,而且純度較低。“十五”初期,為破解壟斷危機搶抓市場機遇,七一八所果斷組建特種氣體工程部,立項開展高純三氟化氮特種氣體及其生產工藝的研究。“十五”中期,七一八所自籌研發經費300多萬元,成功開發出高純三氟化氮電子特種氣體,填補了國內空白, 2005年建成目前國內唯一的年產300噸的生產線,產品在國內幾乎所有半導體、液晶、太陽能行業成功應用,打破了日美的技術壟斷,完全替代進口,并出口美國、日本、法國、德國、新加坡等發達國家。2015年8月,七一八所年產1500噸三氟化氮特種電子氣體生產線建設完成并投入運行,當年實現銷售收入3億多元,為國內企業節省40多億元的支出。
在這種情況下,七一八所著手對這個項目的科研攻關。七一八所對三氟化氮氣體的研制最早可追溯到20世紀80年代初期,初期僅作為一種實驗用氣,年產只有數十公斤,而且純度較低。“十五”初期,為破解壟斷危機搶抓市場機遇,七一八所果斷組建特種氣體工程部,立項開展高純三氟化氮特種氣體及其生產工藝的研究。“十五”中期,七一八所自籌研發經費300多萬元,成功開發出高純三氟化氮電子特種氣體,填補了國內空白, 2005年建成目前國內唯一的年產300噸的生產線,產品在國內幾乎所有半導體、液晶、太陽能行業成功應用,打破了日美的技術壟斷,完全替代進口,并出口美國、日本、法國、德國、新加坡等發達國家。2015年8月,七一八所年產1500噸三氟化氮特種電子氣體生產線建設完成并投入運行,當年實現銷售收入3億多元,為國內企業節省40多億元的支出。
高純
三氟化氮
特種氣體快速發展的同時,七一八所積極跟蹤國際氟化工前沿技術,加大探索新技術研發新產品的步伐,他們先后立項開展六氟化鎢、三氟甲磺酸系列產品等20多種高純特種氣體的研發工作,陸續投資5600多萬元,累計獲得國撥資金3200萬元,開發出氘氣、六氟化鎢、三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐等新產品,取得專利18項,市場前景廣闊,正在擴大產能。 為進一步做大特種氣體產業,抓住國家拉動內需、發展戰略性新興產業的有利時機,按照國家發布的重點支持領域,由七一八所牽頭聯合申報的國家民口重大科技“02專項”——“高純電子氣體研發與產業化項目”于2013年1月成功立項,列入國家“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”重點專項。
目前,七一八所生產的三氟化氮產品國外市場已進入全球用戶的30%;國內市場已進入90%以上的用戶。六氟化鎢產品國際市場已進入全球用戶的30%;國內市場已進入90%以上的用戶。七一八所將繼續加大創新力度,研發更多拳頭產品,為邯鄲市經濟發展做出更大貢獻。
譜源氣體專業供應高純三氟化氮,氣體熱線:
13711176807
分子式:NF3。
基本性質:氣體分子量:71.01,熔點:–206.8℃(1atm),沸點:–129℃(1atm),臨界溫度:–39.3℃,臨界壓 力:44.02atm(4.46MPa),液體密度:1554 kg/m3(1atm,沸點時),氣體密度:2.95 kg/m3(1atm,21℃),水中溶解度(1atm,22℃):1.43×10-5當量濃度。純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體,當混入一定量的雜質氣體后顏色發黃,同時會有發霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃,但能助燃。當溫度超過350℃時,三氟化氮氣體會緩慢分解,分解時產生強氧化性氟,因此,在高溫下它是一種強氧化劑。
CAS No.:7783-54-2。
UN UN.:2451
危險性類別:第2.3類有毒氣體,在空氣中的最高允許含量為29mg/m3。
產品純度: 99.99%~99.995%
產品包裝:47L專用鋼瓶,22kg/瓶;40L專用鋼瓶,20kg/瓶;8L專用鋼瓶,3.4kg/瓶;鋼瓶標準:DOT-3AA, GB5099;閥門:CGA330、CGA640
產品用途:三氟化氮是用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源,在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分(約25%)可以以激光輻射釋放出,所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,對硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面無污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留任何殘留物,同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術的發展和電子工業大規模的發展技術,它的需求量將日益增加。
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